Nous avons vu dans ce chapitre l’évolution du montage SAPCVD. Tous les dépôts, réalisés avec la première version du réacteur (sans pompe secondaire), seront considérés comme des échantillons « test », qui ne seront pas pris en compte dans l’étude des caractéristiques électriques et structurales des couches. Les résultats présentés dans les chapitres suivants concernent uniquement des couches fabriquées avec la plaque chauffante en graphite et un dégazage par la pompe à diffusion pendant au moins 20 heures.
Ce montage nous permet de faire varier les paramètres de dépôt suivants :
De plus on dispose de la possibilité d’ajouter au flux de silane du diborane ou de l’arsine pour le dopage in situ.
Il reste à mentionner, qu’un projet d’un chauffage par lampes est en cours de réalisation, afin de pouvoir intégrer un recuit rapide. De plus, il nous permettra de moins utiliser les résistances pour chauffer le porte-substrat. Ces résistances sont sujettes à des pannes fréquentes lorsqu’elles sont utilisées à haute température. Ce projet est décrit plus en détail dans l’annexe C.